ALD의 주요 장점

원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)의 주요 장점 중 하나는 우수한 계단식 커버리지로 높은 종횡비 구조를 포함하여 복잡한 3차원 구조에 등각 및 균일한 막을 증착할 수 있다는 것입니다. 따라서 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)은 트랜지스터, 커패시터 및 저장 장치와 같은 고급 마이크로 전자 장치의 제조에 특히 적합하며, 장치 성능을 위해 필름 두께 및 조성의 정밀한 제어가 필수적입니다.

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