전자빔 증발의 적용

전자빔 증발의 적용-전자빔 증발에 의한 TiO 2 필름의 제조

아래 그림과 같이 이온 빔 보조 전자 빔 증발 기능이있는 INTEGRITY-39 자동 광학 코팅 시스템을 사용하여 TiO 2 필름을 준비하기위한 코팅 원리 전자 빔 증발.

0010010 nbsp; 1. 냉각수 유입구; {{2}}. 냉각수 배출구; 3. 도가니; 4. 빔 코일; 5. 전자빔 송신기; 6. 가열 램프; 7. 기판 프레임; 8. 모터; 9. 모니터링 필름; 1 0. 이온 소스 도금으로 준비된 샘플 전자총의 작동 전압은 1 0 kV이고, 전류는 {{2}} 00A이며, 진공 챔버의 증착 온도는 1 45입니다. ~ 1 55 ℃. 순도가 9 9 인 검은 색 입상 Ti 2 O 3 . 멤브레인 재료로 %가 선택되었습니다. Cc-1 05 냉 음극 이온 빔을 보조 증착에 사용 하였다. 증착 동안, 진공 챔버는 반응 가스로서 순도 9 9. 99 %로 O 2로 채워졌다. 코팅하기 전에 기판을 유리 용액으로 세척하고 탈 이온수로 헹구십시오. 0010010 nbsp; 물에 질소로 불어 건조시킨다. 이어서, 기판을 99. 9 % 아세톤 및 무수 에탄올 초음파로 각각 15 분 동안 세정한다. 특수 와이프 용지로 건조시킨 후 진공 챔버에 넣습니다. 기계식 펌프 및 확산 펌프로 진공을 {{5}}. 5 × 10-4pa로 펌핑하면 자동 도금 프로세스가 설정됩니다. 기판이 1 5 0 ℃의 증착 온도로 가열 될 때, 이온 소스는 기판을 폭격하기 시작하고, 에너지는 {{5}} 0 ~ 9 0에서 제어된다 10 분 동안 eV.

그 후, 전자총은 필름 재료를 자동으로 가열 및 증발시키기 시작하고, 증착 속도는 0. 38 ~ 0. 42 nm / s이다. 필름이 440 nm의 디자인 두께로 증착되면 프로그램은 자동으로 전자총을 닫고 도금이 완료됩니다. 코팅 후, 진공 챔버를 자연적으로 실온으로 냉각시키고 샘플을 꺼냈다. 샘플 TiO 2 의 스펙트럼 테스트는 Lambda 900 (테스트 범위 175 ~ 3300nm) 분광 광도계로 수행되었다. TiO 2 필름의 실제 두께, 흡광 계수 및 굴절률은 Macleod 소프트웨어 엔벨로프 방법에 의해 계산되었다. 필름 형성 품질에 대한 다른 진공도의 영향y, 굴절률 및 TiO 2 의 흡수 계수는 진공 챔버로의 상이한 고순도 산소 흐름으로 연구되었다. TiO 2 박막이 고진공 도로 이온 원에 의한 증발 보조에 의해 증착 될 때, 산소의 통과에 따른 진공도의 변화는 다음 표에 나열되어있다. 진공 챔버의 산소 분자가 산소 이온으로 이온화되고 Ti {{2}} O 3 증기 분자와 완전히 반응함에 따라 Ti의 분해에서 산소가 손실 됨 {{{{4} }}} O 3 이 (가) 보충되고 필름의 결과 TiO 2 는 비교적 순수합니다. 그러나 산소 공급이 불충분하거나 Ti {{{{}}}} O 3 와 O 2 의 반응이 불충분 한 경우 고 흡수성 티타늄 산화막 티노 {{{{ 4}}}} n-1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). 산소 플럭스가 증가함에 따라, 증발 과정에서 TiO 2 증기 분자와 산소 분자 사이의 충돌 확률이 증가하고 에너지가 손실되어 기판에 증착 된 TiO 2 의 운동 에너지를 감소시킨다 증착 된 필름의 접착 및 치밀화에 영향을 미친다. 광학 박막의 경우, 이온 소스 어시스트는 기판 표면에서 분자의 운동 에너지를 증가시킬 수 있으며, 필름의 굴절률에 상당한 영향을 미칠뿐만 아니라 필름 밀도 및 내 습성 및 필름을 개선 할 수있다 기판상의 접착력 또한 상당히 개선된다.

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