박막증착장비의 CVD와 PVD 비교분석

박막증착장비의 CVD와 PVD 비교분석

박막 증착 기술은 반도체 및 태양광 산업의 발전에 필수적인 공정입니다. 박막 증착 기술은 진공 상태에서 기판 소재의 표면에 다양한 방법으로 얻은 기체 원자 또는 분자를 증착하여 분리된 층 코팅을 얻는 기술을 말합니다. 초경, 내식성, 내열성, 내산화성 기계 피막의 제조에 적합할 뿐만 아니라 자기 기록, 정보 저장, 감광성, 열 민감성, 초전도, 광전 변환 및 기타 기능의 제조에 적합합니다. 영화; 또한 장식용 코팅 필름을 제조하는 데에도 사용할 수 있습니다. 지난 20년 동안 박막 증착 기술은 급속도로 발전하여 기계, 전자, 장식 및 기타 분야에서 널리 사용되고 있습니다. 박막 증착은 서로 다른 박막 형성 메커니즘에 따라 물리적, 화학적, 에피택셜 공정으로 나눌 수 있습니다.

IKS PVD 회사, 장식 코팅 기계, 도구 코팅 기계, DLC 코팅 기계, 광학 코팅 기계, PVD 진공 코팅 라인, 턴키 프로젝트를 사용할 수 있습니다. 지금 저희에게 연락하십시오, 이메일:iks.pvd@foxmail.com