이온 빔 강화 증착(IBED)

이온 빔 강화 증착(IBED)은 이온 주입과 박막 증착을 결합한 새로운 표면 개질 기술입니다. 증착 코팅과 동시에 이온빔을 일정한 에너지와 충격 혼합하여 원소 또는 복합 피막층을 형성하는 것을 말합니다. 이온 주입의 장점을 유지하는 것 외에도 낮은 충격 에너지에서 모든 두께의 필름을 지속적으로 성장시킬 수 있으며 실온 또는 그 근처에서 이상적인 화학비로 화합물 필름을 합성할 수 있습니다(상온에서 얻을 수 없는 새로운 필름 포함). 및 압력). 이 기술은 공정 온도가 낮다는 장점이 있습니다(< 200℃), a strong binding force for all substrates, a high-temperature phase, metastable phase, an amorphous alloy can be obtained at room temperature, easy control of the chemical composition, easy to-control of the growth process and so on. The main disadvantage is that the ion beam is direct, so it is difficult to deal with the complex shape of the surface.

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