플라즈마 세정

플라즈마 세정은 플라즈마를 사용하여 기존의 세정 방법으로는 달성 할 수없는 결과를 얻는 것을 의미합니다. 플라즈마는 고체, 액체 및 기체의 공통 3 상태에 속하지 않는 물질의 네 번째 상태라고도하는 물질의 상태입니다. 이온화하기 위해 가스에 충분한 에너지를 가하면 플라즈마 상태가됩니다.

플라즈마의 "활성"성분은 이온, 전자, 원자, 반응성 그룹, 여기 상태의 핵종 (전이 상태), 광자 등입니다. 플라즈마 세정은 이러한 활성 성분의 특성을 이용하여 샘플의 표면을 처리하여 세정 및 코팅의 효과를 달성하는 것을 의미한다. 작업 물의 표면은 화학적 또는 물리적 작용에 의해 처리되어 분자 수준에서 오염 물질 제거를 달성함으로써 작업 물의 표면 활성을 향상시킨다. 제거 된 오염 물질은 유기 물질, 에폭시 수지, 포토 레지스트, 산화물, 미립자 오염 물질 등을 포함 할 수 있으므로 플라즈마 세정은 고정밀 세정의 일종입니다. 다른 오염 물질에 대해 서로 다른 세정 과정을 사용해야합니다. 일반적으로, 플라즈마 세정은 선택된 공정 가스에 따라 화학적 세정, 물리적 세정 및 물리적 화학적 세정으로 분류된다.