PVD 기술 4 가지 공정 단계

PVD 기술 4 가지 공정 단계 (1) 공작물 청소 : DC 전원 공급 장치, 아르곤 이온으로서 아르곤 글로 방전, 공작물 표면의 아르곤 이온 충격, 표면 ​​입자 및 공작물의 더러운 부분을 버리십시오. (2) 도금 물질의 가스화 : 즉, 교류가 도입 된 후, 도금 물질 기화. (3) 도금 물질 이온의 이동 : 충돌 및 고전압 전기장 후, 가스 화원으로부터의 원자, 분자 또는 이온이 고속으로 공작물로 돌진 됨; (4) 도금 재료 원자, 분자 또는 이온이 기판에 증착됩니다. 공작물 표면의 증발 재료 이온이 유출 이온 수를 초과하면 점차적으로 축적되어 표면에 단단히 부착 된 코팅 층을 형성합니다. 공작물. 이온 도금의 입자 이온화 후, 증발 재료는 3,000에서 5,000 전자 볼트의 운동 에너지, 고속 충격 아티팩트를 가지며, 증착 속도가 빠를뿐만 아니라 표면을 침투하여 매트릭스 확산층에 깊은 곳을 형성 할 수 있습니다 즉, 이온 도금의 계면 확산 깊이는 4 내지 5 미크론, 즉 일반적인 진공 코팅 확산 깊이보다 수십 배, 심지어 수백 배일 것이고 서로 매우 빠르게 접착된다.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd , 중국에서 PVD 진공 코팅 기계 제조 업체, 우리의 주요 제품 : 장식 코팅 mahcine, 도구 코팅 기계, 광학 코팅 기계, PVD 코팅 라인. 자세한 내용은 연락처 : iks.pvd@foxmail. com