고주파(RF) 스퍼터링 코팅

고주파(RF) 스퍼터링 코팅
Rf 스퍼터링은 rf 방전 플라즈마에서 스퍼터링 타겟을 사용하여 타겟에 충격을 가하고 스퍼터링 타겟 원자를 베이스 플레이트 표면에 증착하는 기술입니다. 절연 대상의 뒷면에 배치된 도체에 음의 전위가 인가됩니다. 글로우 방전 플라즈마에서 전면 절연 타겟은 충격을 받고 양이온이 가이드 플레이트로 가속됨에 따라 스퍼터링됩니다. 스퍼터링은 10-7초 동안만 지속되며, 그 후 절연 타겟에 축적된 양전자가 전도성 플레이트의 음전위를 상쇄하여 고에너지 양이온에 의한 절연 타겟의 충격을 차단합니다. 이때 전원의 극성이 반대로 되면 전자가 절연판에 충격을 가해 절연판의 양전하를 10~9초 이내에 0으로 중화시킨다. 그리고 전원 공급 장치의 극성을 다시 연결하면 10-7초 동안 스퍼터링이 발생할 수 있습니다.

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