CVD의 반응 메커니즘

CVD는 열 CVD, 플라즈마 강화 CVD 및 광 강화 CVD와 같은 다양한 유형의 반응 메커니즘을 사용하여 수행할 수 있습니다. 각 메커니즘에는 장점과 단점이 있으며 메커니즘의 선택은 원하는 특성과 필름의 용도에 따라 달라집니다.
고온 CVD에서는 전구체 가스를 고온으로 가열하여 기판에 고체 막을 증착하는 화학 반응을 촉진합니다. 플라즈마 강화 CVD에서 전구체 가스는 화학 반응을 촉진하고 증착 속도를 높이는 플라즈마를 생성하기 위해 이온화됩니다. 광 강화 CVD에서는 전구체 가스에 자외선을 조사하여 화학 반응을 촉진합니다.

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