PVD Nanocoatings의 특성
May 22, 2019| PVD 나노 코팅의 특성
진공 증착, 스퍼터링 및 이온 증착과 같은 나노 코팅의 물리적 증기 증착에 대한 세 가지 기본 방법이 있습니다. 진공 증착은 전자빔 가열, 레이저 가열 등을 통해 원료 물질을 입자 (원자 또는 이온)로 기화시키는 것입니다. 코팅을 형성하기 위해 작업 물의 표면 상에 이들을 증착시킨다. 코팅은 상대적으로 더 많은 기공을 가지며, 기공과의 일반적인 접착력을 갖는다. 스퍼터링 도금은 공작물을 애노드로, 타겟을 캐소드로 사용합니다. 아르곤 이온화에 의해 생성 된 아르곤 이온은 타겟 원자를 날려서 워크 피스 표면에 증착시키는 데 사용됩니다. 코팅은 기공이 적고 기질과 잘 결합됩니다. 이온 도금은 증발, 스퍼터링 또는 화학적 방법에 의해 원자로 물질을 만들고 기판 주위의 플라즈마에 의해 이온화된다. 전기장의 작용하에, 코팅은보다 큰 운동 에너지로 기판에 비행함으로써 형성된다. 코팅은 기본적으로 기공이없고 균일하고 밀도가 높으며 기질과 잘 결합됩니다.
산화 티타늄 나노 필름은 dc 마그네트론 스퍼터링에 의해 제조되었다. 스퍼터링 챔버 압력을 1.3 × 10-4pa로 펌핑 한 다음 Ar, O2 및 CF4로 채우고 전체 압력은 1.3pa (스퍼터링 동안 주입량을 제어 함)였다. 필름의 두께는 100 ~ 400 ℃ 에서 스퍼터링 시간베이스 플레이트 온도 제어를 제어 스퍼터링 조건을 변경하기 위해 일정한 스퍼터링 전압 (700V) 하에서 통과 합니다. Electrochromic 특성은 LiC1O4와 탄산 프로필렌에서 발견되었다. 그러나, 막 표면은 가스 및 하전 입자에 의해 영향을 받고, 막의 성능은 플라즈마 상태에 의해 크게 영향을 받고, 스퍼터링 조건은 엄격하게 제어하기 쉽지 않고, 이는 또한 가장 큰 단점이다.
나노 코팅의 품질을 더욱 향상시키기 위해 다양한 첨단 PVD 기술이 다양한 기술의 조합을 통해 개발 및 유도되었습니다. 전기장이 지배적 인 스퍼터링 기술에 자기장을 도입하여 다양한 마그네트론 스퍼터링 기술이 개발되었습니다. 성막의 화학적 공정을 강화하기 위해 증발, 스퍼터링, 이온 플레이 팅 공정에서 반응성 가스가 도입되어 반응 증발 기술, 반응성 스퍼터링 기술 및 반응성 이온 도금 기술이 나타났습니다. 또한 펄스 레이저 증착 (PLD), 마그네트론 스퍼터링 (MSPLD), 이온화 마그네트론 스퍼터링 (ionized magnetron sputtering), 분자 빔 에피 택시 (MBE), 마이그레이션 성장 및 기타 새로운 멤브레인 기술이 있습니다.
과학과 기술의 발달로 CVD와 PVD의 경계가 분명하지 않고 두 물질이 서로 침투하여 두 가지 코팅 준비 기술이 더욱 완벽 해지는 것을 볼 수 있습니다.
IKS PVD, 장식 코팅 기계, 코팅 기계, 연락처 : iks.pvd@foxmail.com
