화학 기상 증착(CVD)

화학기상증착(CVD)

화학 기상 증착(CVD)은 특정 온도에서 기판 표면과 혼합된 가스의 상호 작용에 의해 기판 표면에 금속 또는 화합물 막을 형성하는 방법입니다.
화학기상증착법의 특징은 다음과 같다. 퇴적물에는 많은 종류가 있으며, 퇴적금속, 반도체소자, 탄화물, 질화물, 붕소화물 등으로 나눌 수 있다. 범위; 복잡한 부품의 기하학적 모양을 균일하게 코팅할 수 있습니다. 증착 속도가 빠르고 필름 층이 조밀하며 매트릭스가 단단히 결합되어 있습니다. 대량 생산이 용이합니다.
우수한 내마모성, 내식성, 내열성 및 전기적, 광학적 및 기타 특수 특성으로 인해 화학 기상 증착 필름은 기계 제조, 항공 우주, 운송, 석탄 화학 산업 및 기타 산업 분야에서 널리 사용되었습니다.

IKS PVD 회사, 장식 코팅 기계, 도구 코팅 기계, DLC 코팅 기계, 광학 코팅 기계, PVD 진공 코팅 라인, 턴키 프로젝트를 사용할 수 있습니다. 지금 저희에게 연락하십시오, 이메일:iks.pvd@foxmail.com