증발 코팅 소스에는 세 가지 유형이 있습니다.

증발 코팅 소스있다세 가지 유형.
(1) 저항 가열 원 : 텅스텐, 호일 또는 필라 메이트로 만든 탄탈륨과 같은 내화성 금속을 사용하여 전류를 통해 그 위에 가열하거나 도가니 증발 재료에 배치하면 저항 가열 원은 주로 Cd, Pb의 증발에 사용됩니다. , Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni 및 기타 재료;
(2) 고주파 유도 가열 소스 : 고주파 유도 전류 가열 도가니 및 증발 물질;
(3)전자빔 가열 원 : 물질의 높은 증발 온도 (2000 [618-1] 이상)에 적합합니다. 즉, 전자빔 충격 물질이 증발하도록합니다.
다른 진공 코팅 방법에 비해 증발 코팅은 증착 속도가 더 빠르며 원소 물질 및 열분해가 어려운 복합 필름을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.
고순도 단결정 필름을 증착하기 위해 분자 빔 에피 택시를 사용할 수 있습니다. 성장 도핑 된 GaAlAs 단결정 층의 분자 빔 에피 택시 장치. 제트 퍼니스에는 분자 빔 소스가 장착되어 있습니다. 초고 진공 상태에서 특정 온도로 가열되면 용광로의 요소가 분자 흐름으로 기질에 쏘아집니다. 기판이 특정 온도로 가열되면 기판에 증착 된 분자가 기판의 격자 순서에 따라 이동하여 결정을 성장시킬 수 있습니다. 분자 빔 에피 택시 방법을 사용하여 원하는 화학량 론적 비율을 갖는 고순도 화합물 단결정 필름을 얻을 수 있습니다. 필름의 가장 느린 성장 속도는 1 단층 / 초로 제어 할 수 있습니다. 배플을 제어함으로써 원하는 단결정 박막의 구성과 구조를 정확하게 만들 수 있습니다. 분자 빔 에피 택시는 다양한 광학 집적 소자 및 초 격자 구조 필름의 제조에 널리 사용됩니다.

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