글로우 방전 및 아크 방전 특성 비교

글로우 방전과 아크 방전 특성 비교

표 3은 글로우 방전과 아크 방전의 방전 특성을 비교한 것이다. PVD와 CVD는 코팅 공정에서 아크 방전이 플라즈마 밀도를 향상시킬 수 있기 때문에 아크 방전 코팅 기술을 발전시킨 것으로 이해할 수 있습니다.

▲ 표 3 글로우 방전과 아크 방전 특성 비교표

표 3에서 아크 방전의 방전 전류 밀도가 글로우 방전보다 훨씬 높기 때문에 금속 피막층의 원자가 더 많은 이온으로 이온화되어 공작물의 음의 바이어스에 의해 끌리는 것을 알 수 있습니다. 가공물에 가속되어 고에너지 필름 입자가 됩니다.

이온의 에너지 단위는 "eV"로 표시되는 전자 볼트입니다. 다음 공식에서 온도와 관련이 있습니다. 1eV는 11600K에서 이 물질의 에너지와 같습니다.

1 EV 재료 1.16 x 104k

진공 증착 및 고온 CVD 기술에서 가공물에 도달하는 막 입자의 온도는 1000K~2000K이고 에너지는 0.1eV~0.2eV에 해당합니다. 그러나 이온도금 중간막에서 피가공물에 도달하는 이온의 힘은 1eV~100eV까지 갈 수 있으며, 그 자체의 중요성이 매우 높고 화합물막 증착이 용이하다. PVD에 의한 TiN 증착의 온도는 1000도에서 500도~200도로 감소하였다.

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