이온 도금

이온 도금의 원리

이온 도금이란 진공 상태에서 가스 또는 기화 물질을 이온화하기 위해 가스 방전을 사용하는 것을 의미합니다. 증발 물질 또는 그 반응물은 기체 이온 또는 기화 된 물질의 이온 충격의 작용하에 작업 대상에 증착됩니다. 이온 도금은 마그네트론 스퍼터링 이온 도금, 반응성 이온 도금, 할로우 캐소드 방전 이온 플레이 팅 (할로우 캐소드 증착), 멀티 아크 이온 플레이 팅 (캐소드 아크 이온 플레이 팅) 등으로 나눌 수 있습니다. 이온 도금은 글로우 방전, 플라즈마 기술 및 진공 증착 기술을 결합하여 코팅의 성능을 크게 향상시킬뿐만 아니라 코팅 기술의 적용을 크게 확대합니다. 장점은 진공 스퍼터링 이외에, 그것은 또한 강한 필름 접착력, 좋은 회절, 도금 될 수있는 물질의 넓은 범위 등의 장점을 가지고 있습니다. 이온 플레이 팅의 기본 원리는 불활성 가스의 글로우 또는 아크 방전에 의해 금속 또는 합금의 증기를 이온화하는 것입니다. 이온 도금은 코팅 재료 (예 : TiN 및 TiC)의 가열, 증발 및 증착 프로세스를 포함합니다. 증발 된 코팅 재료 원자는 글로우 영역을 통과 할 때 약간의 이온화를 겪고 전기장의 작용하에 작업 물로 날아가고 수천 개의 전자 볼트의 에너지로 작업 물의 표면에 부딪치며 주입 될 수 있습니다. 약 수 나노 미터 깊이의 기판. 따라서, 코팅의 결합력이 크게 개선되고, 비 이온화 된 기화 물질 원자가 작업 물에 직접 증착됩니다. 작업 물의 표면에 불활성 기체 이온 및 코팅 물질 이온을 스퍼터링함으로써 오염물을 제거하여 결합력을 향상시킬 수 있습니다.

이온 도금의 장점

1. 강한 회절 력

이온 플레이 팅 공정에서, 증발 물질의 입자는 전기장에서 하전 된 이온의 형태로 전력선의 방향으로 이동한다. 따라서, 전기장이있는 부분은 양호한 도금층을 얻을 수 있으며, 이는 직접적인 방향으로 도금을 얻는데있어 통상의 진공 코팅보다 우수하다. 따라서이 방법은 내부 구멍의 코팅, 홈 및 도금 된 부분의 좁은 슬롯에 매우 적합합니다. 일반적인 진공 코팅 방법은 직접 표면을 코팅 할 수 있습니다. 증발 입자는 등반 사다리와 같이 위로 움직일 수 있습니다. 그러나 이온 플레이 팅은 부품의 뒷면과 내부 구멍을 고르게 코팅 할 수 있습니다. 충전 된 이온은 헬리콥터에 앉아있는 것과 같이 활동 반경 내에서 지정된 경로를 따라 비행 할 수 있습니다.

2. 고품질 코팅

이온 플레이 팅 코팅은 치밀하고, 핀홀이없고, 거품이없고, 두께가 균일합니다. 패싯과 홈조차도 야금없이 균일하게 도금 할 수 있습니다. 나사산과 같은 부품도 도금 할 수 있습니다. 또한이 방법은 도금 표면의 표면 품질과 물리적 및 기계적 특성을 효과적으로 개선 할 수있는 공작물 표면의 미세 균열 및 피트와 같은 결함을 복구 할 수 있습니다. 피로 시험을 통해 적절하게 처리하면 공작물의 피로 수명이 도금 전보다 20 % ~ 30 % 높을 수 있음을 알 수 있습니다.

3. 이온 도금 세정 공정 간소화

기존의 코팅 공정의 대부분은 사전에 공작물을 엄격하게 세척해야하므로 복잡하고 많은 비용이 소요됩니다. 그러나, 이온 도금 공정 자체는 이온 폭격 세정 효과를 가지며, 이러한 효과는 코팅 공정 전체에 걸쳐 계속된다. 세정 효과가 우수하고, 도금을 직접 기판에 근접시킬 수있어, 밀착성을 유효하게 높게하고, 다량의 도금 전의 세정 작업을 간략화 할 수있다.

4. 다양한 종류의 도금이 가능합니다.

이온 도금법은 고 에너지 이온을 사용하여 공작물 표면에 충격을가함으로써 많은 양의 전기 에너지가 공작물 표면의 열에너지로 변환되어 표면 조직의 확산 화학 반응을 촉진합니다. 그러나 전체 공작물, 특히 공작물의 코어는 고온의 영향을받지 않습니다. 따라서,이 코팅 공정은보다 넓은 적용 범위를 가지며 제한이 적습니다. 일반적으로 다양한 금속, 합금 및 특정 합성 재료, 절연 재료, 열에 민감한 재료 및 고 융점 재료가 도금 될 수 있습니다. 비금속 또는 금속 위에 금속 공작물을 도금하거나 비금속 공작물에 금속 또는 비금속을 도금하거나 플라스틱, 고무, 석영, 세라믹 등에 도금 할 수 있습니다.