화학 성분의 PVD 코팅 균일성

화학 성분의 PVD 코팅 균일성

화학 성분의 코팅 균일 성 : 즉, 필름에서 화합물의 원자 성분은 작은 규모의 SiTiO3 필름으로 인해 불균일 한 특성을 생성하기 쉽습니다. 코팅 공정이 과학적이지 않으면 실제 표면 성분은 SiTiO3가 아니라 다른 비율일 수 있습니다. 도금 필름은 원하는 필름의 화학적 조성이 아니며 진공 코팅의 기술적 내용이기도 합니다.

IKS PVD 회사, 장식 코팅 기계, 도구 코팅 기계, DLC 코팅 기계, 광학 코팅 기계, PVD 진공 코팅 라인, 턴키 프로젝트를 사용할 수 있습니다. 지금 문의하세요. 이메일: iks.pvd@foxmail.com