광학 PVD 코팅기

광학 PVD 코팅기

ZY-PVD1012GJ 다중 아크 이온 코팅기는 IKS가 자체 개발 한 독자적인 새로운 필터 아크 소스 코팅 기술, 플라즈마 강화 양극 보조 코팅 기술, 용광로 내부의 플라즈마 경로 및 분포를 채택한 초경량 필름 이온 도금 필름 기계입니다. 타겟 재료의 이온화 속도가 향상되어 타겟 표면이 균일하게 에칭되어 코팅 표면이 부드럽고 컴팩트 해지고 코팅 결합력이 최적화되어 코팅 두께와 균일 성이 보장됩니다. 한편 신기술 적용으로 코팅 효율이 향상되고 에너지 및 운영비가 절약됩니다.

  • 제품 소개

 

ZY-PVD1012GJ 다중 아크 이온 코팅기

ZY10121

엘   풍모

1. 진공 챔버는 진공 실과 챔버 내부의 처리 부품을 설계하여 500 ℃ 의 고온 및 고진공 성능을 나타낼 수 있습니다.

2. 코팅 된 필름 층 은 필름베이스의 접착 강도가 높고 코팅 표면이 부드럽고 인성이 우수합니다.

3. 채택 자동 제어 시스템, 프로세스 안정성 및 반복성이 크게 향상됩니다.

4. 진공 챔버 크기 octahedron 1000XH1200, 이동식 낮은 턴테이블 및 턴테이블 기중 장치의 두 세트를 갖춘, 운영하기 쉬운, 빠른 용광로 배치 스위치를 실현, 높은 생산 효율이 보장됩니다.

엘   장비 개요

 

ZY-PVD1012GJ 다중 아크 이온 코팅기는 IKS가 자체 개발 한 독자적인 새로운 필터 아크 소스 코팅 기술, 플라즈마 강화 양극 보조 코팅 기술, 용광로 내부의 플라즈마 경로 및 분포를 채택한 초경량 필름 이온 도금 필름 기계입니다. 타겟 재료의 이온화 속도가 향상되어 타겟 표면이 균일하게 에칭되어 코팅 표면이 부드럽고 컴팩트 해지고 코팅 결합력이 최적화되어 코팅 두께와 균일 성이 보장됩니다. 한편 신기술 적용으로 코팅 효율이 향상되고 에너지 및 운영비가 절약됩니다.

엘   장비 매개 변수

챔버 크기

BM1000XH1200

유효 공간

Ф700XH800

응용 기술

IET + ARC

표적 물자의 양

8PcsФ 100mm

표준 코팅

TiN, CrN, TiCN, AlTiN 등

기타 복합 코팅

TiAlCrN, TiSiN, TiCrN, DLC 등

생산주기

약 3 시간 / 용광로

전반적인 차원

L2400XW2400XH2400mm

응용 프로그램의 범위

스틱 밀링 커터, 마이크로 드릴, 커터 그레인 등에 적용 가능

 

엘   코팅 제품

광학 코팅 2

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