광학 코팅의 일반적인 문제점 분석 및 개선

광학 코팅의 일반적인 문제점 분석 및 개선

코팅 제품의 공통적 인 문제는 부분적으로 코팅 공정 자체에 기인하며 일부는 이전 엔지니어링에서 남겨 둡니다. 코팅의 최종 품질은 전체 광학 부품 처리 (특히 연마 및 세척)를 포괄적으로 반영합니다. 실제로 원인을 찾아 내고 대책 개선으로 결과를 얻을 수 있습니다.

우선, 막 강도

필름 강도는 렌즈 코팅의 중요한 지표이며 코팅 공정의 공통 항목입니다.

필름 강도 (약한 필름)는 주로 다음과 같이 표현됩니다.

1 특수 테이프로 닦거나 찢어 벗겨 내십시오.

2 특수 테이프로 닦아내거나 찢어서 포인트 드롭을 만듭니다.

3 15 분 동안 삶은 다음 특수 테이프로 뽑아 포인트를 만들거나 벗겨냅니다.

4 특수 고무 헤드를 사용하고 1Kg 힘으로 40 번 문지르면 생산할 도로가 있습니다.

5 거북이와 망선에 균열이있는 필름을 닦거나 닦지 않습니다.

개선 아이디어 : 기판과 필름의 조합이 주요 고려 사항이며, 필름 표면 경도의 부드러움과 필름 응력이 뒤 따른다.

필름 강도의 원인과 대책 :

1 기질과 필름 층의 조합.

일반적으로 반사 방지 필름에서 이것은 약한 필름의 주요 원인입니다. 광 냉간 가공 및 세정시에는 기판 표면에 필연적으로 표면에 유해한 불순물이 부착되어 있기 때문에, 광 냉간 가공의 영향에 의해 기판의 표면에 약간의 손상 층이 생기고, 수증기), 유증기, 세정액, 닦는 액체, 연마 파우더 등의 수증기를 주성분으로하는)에서는 친수성이 강하고 흡착력이 좋은 기판의 경우 일반적인 방법으로 제거하기가 어렵습니다. 막 분자가 이러한 불순물에 축적되면, 막 층의 접착력이 영향을 받아 막 강도에 영향을 미친다.

또한, 기재가 친수성이 좋지 않고 흡착성이 나쁜 경우에는 필름 층의 흡착도 불량하여 필름 강도에도 영향을 미친다.

질산염 물질의 화학적 안정성은 낮습니다. 전처리 과정에서 기판을 가공하는 동안 표면이 부식되어 부식 층이나 가수 분해 층 (아마도 국부적으로, 극도로 얇은)을 형성하게됩니다. 필름이 부식 층 또는 가수 분해 층 상에 도금 될 때, 흡착은 불량하고 필름은 단단하다.

기판의 표면이 더럽고 기름 얼룩, 회색 반점, 타액 점 등이 있으며 국소 필름 층이 부착되어 국부적 인 필름 견고성을 갖습니다.

전략 개선 :

(1) 탈지 처리를 강화한다. 초음파 세척의 경우 오일 제거 기능과 오일 용액의 효과에 초점을 맞춰야합니다. 손으로 문지르면 청소하기 전에 탄산 칼슘 파우더로 닦아내십시오.

(2) 사전 도금 베이킹을 강화하고, 조건이 허용하고, 기판 온도가 300 ℃ 이상에 도달 할 수 있고, 온도가 20 분 이상이며, 기판 표면의 수증기 및 오일 증기가 휘발성이어야한다. 가능한 한 많이 * 참고 : 온도는 더 높고, 기질 흡착 용량은 증가하며 먼지를 쉽게 흡착합니다. 따라서, 진공 챔버의 청결도가 향상되어야한다. 그렇지 않으면, 기판은 도금 전에 먼지 부착을 가지며, 이는 다른 것뿐만 아니라 막 강도에 영향을 미친다. (진공 상태에서 기질상의 수증기의 화학적 탈착 온도는 260 ℃ 이상이다). 그러나 모든 부품이 고온 베이킹을 필요로하는 것은 아니며, 일부 질산염은 고온이지만, 필름 강도가 높지 않고 색 반점이있을 수 있습니다. 이것은 응력 및 재료 열적 일치와 큰 관계가 있습니다.

(3) 조건이있을 때, 응축기 (PLOYCOLD)가 장착되어 있습니다. 장치의 진공 펌핑 속도를 높이는 것 외에도 기판의 수증기와 오일 및 가스를 제거하는 데 도움을 줄 수 있습니다.

(4) 진공 증착의 진공도를 높이려면 코팅기가 1m 이상인 경우 증착 시작의 진공도가 3 * 10-3Pa보다 커야하며 코팅기가 클수록 증착의 진공.

(5) 조건이 충족되면 장치에 이온 소스가 장착되어 도금 전에 충격을 받고 기판 표면을 세척하고 코팅 과정을 도와 필름 층의 소형화에 도움이됩니다.

(6) 사용되는 필름 재료 및 필름 재료의 제습을 진공 챔버에 넣고 건조시킨다.

(7) 작업 환경을 건조하게 유지하고 (렌즈 닦기, 우산 작업 영역 포함) 작업 환경을 청소할 때 너무 많은 수증기를 가져 가지 마십시오.

(8) 다층막의 경우, 막 시스템의 설계에있어서, 막과 기판의 매칭을 고려할 필요가 있고, 대부분의 기판에 우수한 흡착력을 갖는 Al2O3 막 재료를 가능한 한 많이 고려해야한다 . 금속 필름의 경우 층 도금 된 Cr 또는 Cr 합금도 고려할 수 있습니다. Cr 또는 Cr 합금은 또한 기판에 우수한 흡착력을 갖는다.

(9) 렌즈 표면의 부식 층 (가수 분해 층)을 제거하기 위해 폴리싱 액 (폴리싱 액)을 취한다.

(10) 때로는 막 강도를 향상시키기 위해 증발 속도를 적절하게 감소시키는 것이 도움이되며, 이는 막 표면의 평활성을 향상 시키는데 긍정적 인 의미를 갖는다.

3 외부 필름 표면 경도 :

반사 방지막의 외층은 일반적으로 MgF2이며, 막의 단면은 느슨한 기둥 형 구조이며, 표면 경도는 높지 않고, 트랙을 닦아 내기 쉽다.

전략 개선 :

(1) 막 시스템 설계가 허용 할 때, 외층은 약 10 nm의 SiO2 층으로 코팅된다. 실리카의 표면 평활성은 마그네슘 불화물보다 우수합니다 (그러나 실리카의 표면 마모 및 경도는 불화 마그네슘만큼 좋지 않습니다). 몇 분 동안 도금 한 후에는 견고 함의 효과가 더 좋을 것입니다. (그러나 표면이 두껍게 됨)

(2) 렌즈가 진공 챔버를 나온 후, 습기를 빠르게 흡수하고 표면 경도를 줄이기 위해 상대적으로 건조하고 깨끗한 장소에 놓습니다.

기타 4 명

막 강도의 이유는 진공도가 너무 낮고 (수동 제어 기계에서 발생하기 쉽기 때문) 진공 챔버가 더럽고 기판이 가열되지 않기 때문입니다.

보조 가스가 충전 될 때, 필름 재료 또한 수축되어 진공도가 낮아지고, 분자 자유 경로가 감소되고, 필름 층이 강하지 않다. 따라서, 보조 가스의 충진은 필름 재료의 배출을 고려해야한다. 도금 전에, 필름 재료는 완전히 예비 - 용융되고 완전히 수축되며, 증착시 필름 재료의 배출에 의해 진공도가 과도하게 저하되어 필름 강도에 영향을 미친다.

5 스트리핑

여기서의 이형 필름은 약한 필름이지만, 상기 이형 필름과는 약간의 차이가있다. 주요 기능은 spot-like release, edge release, partial release입니다.

주요 원인은 멤브레인에 먼지 또는 오염 물질이 존재하기 때문입니다.

개선 방법 : 기판의 청결을 향상시킵니다.

멤브레인 포인트는 또한 코팅 된 제품의 공통적 인 문제입니다. 일본과 대만에서는 영화 점을 "스팟 홀"이라고 부릅니다.

이름에서 알 수 있듯이 필름 포인트는 증착입니다. 큰 입자 필름 포인트는 필름의 증기 분자와 함께 기판 표면에 증착됩니다. 기판의 표면에는 점 모양의 돌출부가 형성되고, 때로는 개개의 점이 형성된다. 심한 경우 조각으로 형성됩니다. 미세한 반점, 큰 입자는 심지어 기판의 표면을 손상시킬 수 있습니다.

다양한 필름 재료의 증발 특성이 다르다. 특히 융점 온도와 증발 온도는 매우 다르다.

고체 상태로 직접 증발되고 승화 물질 인 증발 온도보다 큰 융점 온도를 갖는 물질;

비 증발 물질 인 고체 상태에 의해 액체 상태로 변환 된 후 증발 온도보다 낮은 융점을 갖는 물질을 기체 상태로 증발시켜 증발시키는 재료;

증발 온도와 동등한 융점 온도를 가지며, 고체 상태에서 기체 상태로 증발하고, 용융하면서 증발한다. 반 승화 재료입니다.

그 중에서도 비 승화 성 물질은 액상 물질이 계속 가열되어 끓기 때문에 끓는 물질 내의 필름 물질 내의 기포가 넘치고 막 물질 점이 튀어 나올 가능성이 있기 때문에 필름 물질 점을 쉽게 생성 할 수있다 증가합니다. 물자가 미리 녹을 때 튀는 다량이 때때로있다.

필름 재료는 습기가 있으며 수증기는 예비 용융 또는 증발 중에 빠져 나와 튀어 나옵니다.

IKS PVD, 광학 코팅기, OPT-2700, iks.pvd@foxmail.com에 문의하여 기계 파라미터 세부 정보를 요청하십시오.